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簡(jiǎn)單且功能齊全的濺射沉積裝置,用于可重復(fù)的薄膜層應(yīng)用。即插即用的緊湊設(shè)計(jì)。
工藝室包含3個(gè)磁控濺射源端口(用于金屬和無(wú)機(jī)物),采用濺射向下配置安裝。最多可同時(shí)使用兩個(gè)源(共沉積)基底臺(tái)適用于直徑最大2英寸的樣品,具有加熱和旋轉(zhuǎn)選項(xiàng)。
特征
1.即插即用結(jié)構(gòu)
2.易于使用的移動(dòng)裝置,可快速測(cè)試和濺射涂層
3.處理室配有大型真空門(mén),方便更換靶材或基材
4.配備MS2 100 ISO-K 磁控管源和新型M600DC-PS 電源
5.可承載直徑達(dá) 2英寸樣品 的基片臺(tái)
6.加工室直徑:Ø 355 毫米
7.3 個(gè)2 英寸磁控管源端口
8.1 個(gè)視口 – 帶百葉窗的觀察窗
9.防止交叉污染的保護(hù)屏障
10.基準(zhǔn)壓力范圍 10 -7 mbar
11.帶真空計(jì)的快速抽氣系統(tǒng)
12.通過(guò)質(zhì)量流量控制自動(dòng)計(jì)量氬氣
描述
快速泵送系統(tǒng)(帶有手動(dòng)節(jié)流閥)與小容量的工藝室相結(jié)合,使您能夠在短時(shí)間內(nèi)達(dá)到基準(zhǔn)壓力。
工藝室配備HV標(biāo)準(zhǔn)的連接法蘭,用于連接現(xiàn)有和未來(lái)的設(shè)備,包括: 最多 3 個(gè)2” 磁控管源,基板操縱器,泵送系統(tǒng)m,防止交叉污染的保護(hù)盾,石英天平,視口 - 帶百葉窗的觀察窗,真空計(jì),高溫計(jì)。